三星成功流片3nm GAA芯片
鞭牛士 7月5日消息,三星宣布,与Synopsys合作的采用GAA架构的3nm制程技术已经正式流片。
在3nm节点,三星比较激进,直接选择了下一代工艺技术——GAA环绕栅极晶体管,通过使用纳米片设备制造出了MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET,多桥通道场效应管),该技术可以显著增强晶体管性能,主要取代FinFET晶体管技术。

鞭牛士 7月5日消息,三星宣布,与Synopsys合作的采用GAA架构的3nm制程技术已经正式流片。
在3nm节点,三星比较激进,直接选择了下一代工艺技术——GAA环绕栅极晶体管,通过使用纳米片设备制造出了MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET,多桥通道场效应管),该技术可以显著增强晶体管性能,主要取代FinFET晶体管技术。